设备简介： 多温区CVD系统一体炉，供气和真空系统灵活组合，满足各类薄膜沉积，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大面积的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。

配置详情

设备特点：  1、采用高纯石英或不锈钢材质炉管，耐腐蚀耐高温性能优越；  2、高纯度Al2O3纤维耐火保温材料，保温效果优越，降低设备功耗；  3、炉体采用双层风冷结构工艺，自动抬升系统开启上盖；  4、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置；  5、可预约烧结，实现无人值守烧结工艺曲线烧结；  6、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据，并可导出实现无纸记录；  7、具有实现远程操控，实时观测设备状态；  8、温度校正：主控温度和试样温度的差值，烧结全程进行非线性修正   9、一体化设备包含多路供气系统，多温区加热系统和高真空系统；

产品温区

三温区

四温区

五温区

六温区

炉管尺寸

Φ25/Φ50/Φ60/Φ80/Φ100*1600mm

工作温度

≤1150℃

加热区选择 (可定制）

200mm*3 200+300+200mm 200+400+200mm 300mm*3 300+400+300mm

200mm*4 200+300+300+200mm 200+400+400+200mm 300mm*4 300+400+400+300mm

200mm*5 300mm*5

200mm*6 300mm*6

升温速率

≤20℃/s

电气规格

AC380V 6~10KW

AC380V 8~14KW

AC380V 10~15KW

AC380V 12~18KW

气体系统（可选购）

浮子或质子

管道示意图

进气接口数量

2、3、4（多路可选）

流量范围

20-250/20-800ml/min......(多量程可选) 50/100/200/500sccm......(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15MPa

低真空系统（可选购）

真空泵型号

NBD-3C/NBD-4C

抽气速率

3L/s或4L/s

进排气口尺寸

KF16/25

系统真空

3~5Pa（真空泵极限真空6.2*10-2Pa）

工作环境温度

5-40℃

电气规格

AC220V

高真空系统（可选购）

真空泵型号

NBD-103(A)

NBD-103(B)

抽气速率

110L/s

600L/s

真空测量计

复合真空计

系统真空

4.310^-3Pa

6*10^-4Pa

工作温度

5-40℃

电气规格

AC 220V

AC 380V

* 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询400-000-3746

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