光源系统、物镜系统、EDA工程、双工件台系统是构成光刻机的四大核心部件。先前我们在双工件台系统、光源系统中已经有所突破，决定逻辑芯片前期技术开发的EDA工程软件系统也被芯和半导体攻破。决定光刻机制程精度，光刻机核心的物镜系统，近期被长春光机所成功拿下。

2021年10月27日消息，中国新闻网报道：长春光机所突破光刻机核心部件“光学投影物镜”制造关键技术，实现了中国超精密光学技术的跨越式发展。光刻机的四大核心项目被基本攻坚，意味着我们距离拥有自己高精尖光刻机的那一天已经越来越近。

长春光机所破冰超精密光学投影物镜，具体会给我国的光刻机业务带来怎样的推动作用呢？如何看待长春光机的成就呢？首先我们要搞懂“光学投影物镜”是什么？

硅基芯片内置规格的有限性与摩尔定律规定下的性能提升、硅晶体数量提升之间的矛盾，给光刻机设备提出了更高的制程要求。决定光刻机制程精度的物镜，其重要性不言而喻。“物竞天择，适者生存”光刻分辨率地不断提高，投影物镜的结构形式也在不断调整。

在经历了一段筛选、演变后；光学光刻机采用的投影物镜结构形式由初的低分辨率光学光刻机全反射型、全折射型、折反射型多种结构的并存时代，逐步转变成以全折射式结构形式为主流的高分辨率光刻机时代。不过对比全折射式光学投影物镜，折反射式结构的物镜具有更优越的光学性能，之所以没有代替全折射式结构成为主流，是因为折反射式结构在光刻机中应用，还需要克服许多的现实技术问题。

尽管长春光机所并没有提到“光学投影物镜”是折反射式还是全折射式，但从目前的技术水平出发，长春光机所破冰成功的大概率是全折射式光学投影镜头。目前大多数光学光刻机的物镜结构采用的都是基于全折射式结构制造的光学投影镜头，即便是ASML也不例外。换句话说，长春光机所破冰“光学投影物镜”意味着我们在光学物镜领域中，已处于业界主流水平。

长春光机所研发的“全折射式光学投影镜头”一旦商用，大概率会是7~5纳米理想，14~10纳米够用。这有效缓解了国产半导体厂商在高精尖制程芯片上的压力。如果长春光机所破冰的是“折反射式光学投影镜头”，那就厉害了，直接是全球领先。这并不是夸大，即便是光刻机镜头光洁度做得高的德国蔡司，也无法克服“式光学投影镜头”的实际技术问题。

不论是性能表现卓越的“折反射式光学投影镜头”，还是综合成本、贴近半导体企业发展实际的“全折射式光学投影镜头”，长春光机所破冰“光学投影物镜”，都将推动我国半导体芯片代工产业的发展，缓解国产半导体厂商的燃“芯”之急。当然，前提是完成光刻机各领域技术的整合、协调。

虽说目前我们在光刻机领域中与国外之间的差距很大，但比起国外的光刻机发展进程，我国在光刻机领域中的进展已十分可观。“人多好办事、人多办好事”相信在国家的正确引导下，ASML光刻机的神话并不会持续很久。祝愿国产半导体厂商愈发强大，早日实现各环节技术的整合，重新夺回半导体发展的主动权。

对于长春光机所破冰成功的“物镜系统”，大伙有什么想说的呢？眼下国产半导体厂商在光源系统（长春、上海光机所）、物镜系统（长春光机所、中科院）、EDA（芯和半导体）、双工件台系统（华卓精科）中皆有建树，你认为国产半导体距离实现高精尖芯片自给自足目标的道路还有多远呢？

文章来源：中国新闻网