-
ꁇ高压科学材料成套设备
-
ꁇ金刚石对顶砧压腔
-
对称型金刚石对顶砧压腔
-
改型金刚石对顶砧压腔
-
旋转型金刚石压腔
-
XRD实验用金刚石对顶砧压腔
-
高强无磁合金对顶砧压腔
-
加热型金刚石对顶砧压腔
-
铍铜对称型金刚石对顶砧压腔
-
电学用金刚石压腔
-
-
ꁇ金刚石压砧
-
金刚石压砧
-
碳化硅压砧
-
氧化铝金刚石
-
-
DAC配套原位装置
-
辅助设备
-
高压耗材
-
-
ꁇ金属材料研究成套设备
-
ꁇ制粉、混料
-
破碎、混料机
-
-
ꁇ成型
-
加热、熔炼
-
辊压机
-
-
ꁇ镶嵌
-
镶嵌机
-
镶嵌耗材及辅助设备
-
-
ꁇ切割
-
粗切
-
精切
-
耗材及辅助设备
-
-
ꁇ研磨抛光
-
手动设备
-
自动设备
-
研磨抛光耗材
-
-
ꁇ取样
-
取样机
-
-
ꁇ清洗
-
清洗设备
-
-
ꁇ镀膜
-
等离子溅射仪
-
磁控溅射仪
-
-
ꁇ检测
-
设备
-
-
ꁇ高通量成套设备
-
设备
-
-
-
ꁇ电池研发成套实验设备
-
ꁇ扣式电池实验加工设备
-
浆料制备
-
极片制备
-
电池装配
-
电池测试
-
-
软包电池实验设备
-
-
ꁇ脆性材料(陶瓷、玻璃、晶体等)研究成套设备
-
ꁇ制粉、混料
-
设备配件
-
配件
-
-
粉体成型
-
热处理
-
镶嵌
-
切割
-
研磨抛光
-
取样
-
清洗
-
镀膜
-
检测
-
-
ꁇ薄膜材料生长成套设备
-
提拉涂膜机
-
刮膜机、丝印机
-
静电纺丝/喷雾热解制膜机
-
旋转涂膜机/匀胶机
-
高真空镀膜机
-
低真空镀膜机
-
化学气相沉积设备(PECVD等)
-
清洗
-
真空泵组
-
-
ꁇ地质地矿材料研究成套设备
-
破碎、混料
-
镶嵌
-
打孔取样
-
切割
-
研磨抛光
-
清洗
-
镀膜
-
检测
-
-
ꁇ电镜成套制备设备
-
全套方案
-
-
ꁇ加热炉系列
-
ꁇ箱式炉
-
400~1200℃箱式炉
-
1300-1500℃箱式炉
-
1600-1700摄氏度
-
1800℃箱式炉
-
箱式炉相关配件及耗材
-
井式炉
-
-
ꁇ管式炉
-
1000℃-1100℃管式炉
-
1200℃1-7温区开启式管式炉
-
1300℃-1500℃管式炉
-
1600℃-2400℃管式炉
-
混气系统
-
真空系统
-
旋转管式炉
-
管式炉相关配件及耗材
-
-
CVD系统
-
-
ꁇ材料分析检测设备
-
拉曼检测仪
-
红外光谱仪
-
X射线衍射仪
-
XRF检测仪
-
晶体定向仪
-
粒度分析仪
-
平面干涉仪
-
椭偏仪
-
薄膜测厚仪
-
接触角测量仪
-
硬度检测仪
-
粗糙度检测仪
-
万能试验机
-
热分析仪、热膨胀分析仪
-
粘度计
-
电镜制样设备
-
显微镜
-
-
ꁇ实验室通用设备
-
ꁇ电化学实验全套设备及耗材
-
电解池系列
-
电极系列
-
-
实验室纯水系统及耗材
-
ꁇ实验室冷冻干燥机系列
-
台式/立式冷冻干燥机
-
-
实验室磁力搅拌器设备系列
-
实验室手套箱设备及耗材
-
实验室显微镜设备及耗材
-
ꁇ实验室维氏硬度测量系统
-
EAV-2A-500型自动维氏硬度测量系统
-
-
实验室干燥箱系列
-
分析天平
-
UNIPOL-160D双面研磨抛光机
- 大家都在看
产品简介: UNIPOL-160D 双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、红外光学材料(如硒化锌、 硫化锌、硅、锗等晶体) 、玻璃、金属等片状材料的双面精密研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动 机构, 通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动, 使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产 生速度差以及相对运动, 而样件置于太阳轮驱动的载样行星齿轮内孔中, 从而对其进行双面研磨抛光。 UNIPOL-160D 双面研磨抛光机可以选择用研磨盘加磨料研磨样品,也可以选择抛光盘贴砂纸的方式研磨样 品。抛光盘贴砂纸是将砂纸贴在研抛底片上然后将研抛底片吸附在抛光盘上在进行研磨抛光。可以同时对 多个样品一起进行研磨,研磨抛光的效率高,适合大量试样的研磨或工厂的小批量生产。
产品名称 | UNIPOL-160D 双面研磨抛光机 |
产品型号 | UNIPOL-160D |
安装条件 | 本设备要求在海拔 1000m 以下, 温度 25℃±15℃ ,湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。 |
1、水:设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水。 2、电: AC220V 50Hz,必须有良好接地 | ||||
3、气:无 4、工作台: 尺寸 800mm×600mm×700mm ,承重 200kg 以上 5、通风装置:不需要 | ||||
主要特点 | 1、转速采用手动调整变频器频率的控制方式。 2 、可同时对 4 片尺寸为 Ø2" 的基片进行双面研磨抛光。 | |||
3、可进行薄片的双面减薄。 4 、是双面研磨抛光 Si 、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具。 | ||||
技术参数 | 1、电源: 220V 50Hz 2、功率: 550W | |||
3、磨抛盘: Ø225mm 4、磨抛盘转速: 0-72rpm 内无级可调 5、最大样件尺寸: Ø50mm(max ),厚度≤15mm 6、上磨抛盘重量: 3.5kg | ||||
产品规格 | 尺寸: 650mm×500mm×580mm;重量: 80kg | |||
标准配件 | 1 | 研磨盘 | 1 套 | |
2 | 抛光盘 | 1 套 | ||
3 | 修盘行星轮 | 4 个 | - | |
4 | 载样行星轮(电木) | 8 个 | - | |
5 | 配重环 | 3 个 |
6 | 磁力片 | 4 片 | - | |
7 | 研抛底片 | 4 片 | - | |
8 | 抛光垫(磨砂革、合成革、聚氨酯) | 各 2 片 | - | |
9 | 金刚石抛光膏(W2.5) | 1 支 | ||
可选配件 | 可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。 |