激光直写

µMLA是一个高速直接写平刻工具，扩展的能力，以前只有在掩码对齐器。它可以直接暴露掩模，而不预先制作掩模，从而导致显著缩短的原型周期。它提供了高对准精度和光源，产生足够的剂量，暴露甚至厚和不太敏感的抗。该系统提供了灵活的模式改变和软件修正。该系统可产生高达0.6µm的结构。