【中国IC风云榜候选企业205】纳微半导体:不断突破创新 力争成为氮化镓功率芯片领航人

来源:爱集微 #纳微半导体# #IC风云榜#
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【编者按】2022中国IC风云榜全新升级,在去年7大奖项的基础上扩展赛道,最终形成15大奖项。10月25日奖项申报已启动,目前征集与候选企业报道正如火如荼进行中。本次评选将由半导体投资联盟137家会员单位及400多位半导体行业CEO共同担任评选评委,奖项名单将于2022第三届半导体投资联盟年会暨中国IC风云榜颁奖典礼上揭晓。

本期候选企业:纳微半导体

【参选奖项】中国IC风云榜年度技术突破奖

【参选产品】纳微GaNFast氮化镓功率芯片

近年来,随着功率半导体器件、工业半导体、汽车电力电子等领域的空前发展,第三代半导体材料越发凸显其重要性与优越性。

第三代半导体材料以氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)、氧化锌(ZnO)、金刚石等为代表,具有禁带宽度大、击穿电场高、热导率高、电子饱和速率高及抗辐射能力强等优点,是固态光源和电力电子、微波射频器件的“核芯”,在半导体照明、新一代移动通信、智能电网、高速轨道交通、新能源汽车、消费类电子等领域具有应用前景。

这其中,氮化镓材料耐热性好,因具有高电子迁移率而成为高频的“赢家”,其电子迁移率高于碳化硅,可提高晶体管的开关转换速度,适用于高频率、大功率电路中。数据显示,氮化镓器件的开关速度比传统的硅器件快20倍,在尺寸和重量减半的情况下,可实现高达3倍的功率和3倍的充电速度。

发展迅猛

纳微半导体成立于2014年,是氮化镓功率芯片的行业领导者。2021年10月20日,纳微半导体敲响了纳斯达克的开市钟,并开始在纳斯达克交易,当日企业价值超过10亿美元,总融资额超过3.2亿美元。

纳微半导体的GaNFast功率芯片被应用在130多种型号的移动充电器中。截至2021年10月,纳微半导体已交付3000万多颗GaNFast功率芯片。在65W功率段,GaNFast功率芯片频频进入OPPO、小米、努比亚、联想、坚果、贝尔金等品牌厂商供应链。

值得一提的是,纳微半导体拥有130多项专利已经颁发或正在申请中。截止今年11月份,已经有超过3000万颗纳微GaNFast氮化镓功率芯片出货,在现场测试实现了超过1160亿个设备小时,并且没有任何关于GaN现场故障的报告。与传统的硅功率芯片相比,每颗出货的GaNFast氮化镓功率芯片可以减少碳足迹 4-10 倍,相比硅芯片可节省4千克的二氧化碳排放。

突破创新

2021年11月,纳微半导体宣布推出新一代采用GaNSense技术的智能GaNFast氮化镓功率芯片。GaNSense技术集成了关键、实时、智能的传感和保护电路,进一步提高了纳微半导体在功率半导体行业领先的可靠性和稳健性,同时增加了纳微氮化镓功率芯片技术的节能和快充优势。

据了解,这项技术实现了正在申请专利的无损耗电流感应能力。与前几代产品相比,GaNSense 技术可额外提高10%的节能效果,并能够进一步减少外部元件数量,缩小系统的尺寸。此外,如果氮化镓功率芯片识别到有潜在的系统危险,该芯片将迅速过渡到逐个周期的关断状态,以保护器件和周围系统。GaNSense技术还集成了智能待机降低功耗功能,在氮化镓功率芯片处于空闲模式时,自动降低待机功耗,有助于进一步降低功耗。这对越来越多积极追求环保的客户来说尤为重要。

凭借业界最严格的电流测量精度和GaNFast响应时间,GaNSense技术缩短50%的危险时间,危险的过电流峰值降低50%。GaNFast氮化镓功率芯片单片集成提供了可靠的、无故障的操作,没有 "振铃",从而提高了系统可靠性。

值得一提的是,采用GaNSense技术的新一代纳微GaNFast氮化镓功率芯片有十个型号,他们都集成了氮化镓功率器件、氮化镓驱动、控制和保护的核心技术,所有产品的额定电压为650V/800V,具有2kV ESD保护。新的GaNFast功率芯片的RDS(ON)范围为120至450毫欧,采用5 x 6 mm或6 x 8 mm PQFN封装,具有GaNSense保护电路和无损电流感应。作为纳微第三代氮化镓功率芯片,针对现代电源转换拓扑结构进行了优化,包括高频准谐振反激式(HFQR)、有源钳位反激式(ACF)和PFC升压,这些都是移动和消费市场内流行的提供最快、最高效和最小的充电器和适配器的技术方法。

除了快充领域,纳微半导体认为,氮化镓技术还能应用在数据中心、太阳能发电和车载充电机中,提高转换效率并减小电源部分的体积,提供更有竞争力的选择。应用纳微氮化镓技术到电源中,能够有效减少电源方案的器件数量,并减小PCB板的面积,从生产环节减少碳的排放量。

面对中国市场,纳微半导体表示,中国市场变得越来越重要,纳微的营收超过70%来自中国。据了解,纳微半导体已在上海建立纳微中国芯片设计中心,设立深圳、杭州分公司。

【年度技术突破奖】

奖项旨在表彰技术不断创新迭代,攻克难关,实现产业技术创新突破,推动全球科技潮流向前迈进的企业。

【报名条件】

1、深耕半导体某一细分领域,2021年发布的新技术产品有重大技术突破,代表国际/国内先进水平;

2、产品应用范围广,市场反馈及前景良好,对全球/国内半导体产业的发展起到重要作用。

【评选标准】

1、技术产品主要性能和指标(30%)2、技术突破创新性(50%)3、市场应用(20%)

责编: 刘燚
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李梅

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关注半导体制造、设计,通信等领域,聚焦中国台湾地区产业的风向与动态。


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