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![CVD管式炉的图片](http://img1.cnpowder.com.cn/img/daily/2018/08/16/123049_952246_product_c22085.jpg)
原产地: 上海
信息完整度: | ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() | 关注度:13266 |
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产品应用
高真空CVD系统是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的专用设备,广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。
产品特点
高真空CVD系统主要由高温腔体、石英管、石英支架、气路系统、分子泵机组、自动化控制系统、冷却系统等组成。
1、沉底材料可采用铜箔、石墨等;
2、生长腔体采用进口高纯石英管,配石英支架、为石墨烯等材料的生长提供洁净环境;
3、炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维,不易掉粉、寿命长且保温性能好。加热丝采用优质掺钼铁铬铝合金加热丝,温场均匀,能耗低;
4、密封法兰均采用不锈钢材质,配水冷套,可连续长时间工作;
5、气路系统采用两路质量流量计(可拓展多路),配预混系统;
6、气体种类: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6;
7、温度、气体、真空、冷却水等通过PLC控制,通过PC实时控制和显示相关的实验参数,自动保存实验参数,也可采用手动控制;
8、系统采用集成化设计,控制系统、混气罐、质量流量计等均内置在箱体内部,占地面积小。整体安装四个可移动轮子,方便整体移动。
![](pubcss/button_2.gif)
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